Resposta de Urochloa brizantha cv. BRS Piatã a diferentes níveis de alumínio e à aplicação de silício

Resumo

O objetivo do presente estudo foi avaliar a resposta da forrageira Urochloa brizantha cv. BRS Piatã a diferentes níveis de alumínio (Al) e ao uso de silício (Si) como atenuador da toxicidade de Al. Para isso, plantas de U. brizantha foram cultivadas em vasos plásticos com capacidade de 2,5 L, preenchidos com solução nutritiva. Utilizou-se um delineamento inteiramente casualizado, em esquema fatorial 4 × 2, composto por quatro concentrações de Al (0, 2, 4 e 8 mmol L⁻¹) e aplicação ou não de Si. Foram empregadas quatro repetições por tratamento. Após 14 dias, as plantas foram coletadas para as seguintes avaliações: altura de planta, massa fresca e seca da parte aérea e das raízes, razão raiz/parte aérea, área foliar, número de perfilhos, extravasamento de eletrólitos, e acúmulo de Si e Al. Os dados foram submetidos à análise de regressão polinomial, aplicando-se modelos lineares e quadráticos para selecionar aquele com melhor ajuste. De modo geral, o Al acumulou-se tanto nas raízes quanto na parte aérea das plantas, reduzindo o crescimento de ambos os órgãos. Além disso, observou-se acentuado aumento no extravasamento de eletrólitos, indicando maior estresse oxidativo. Por outro lado, a aplicação de Si reduziu o acúmulo de Al e o extravasamento de eletrólitos, enquanto aumentou o crescimento tanto da parte aérea como das raízes. Dessa forma, conclui-se que, embora o Al cause danos severos à U. brizantha, a aplicação de Si foliar é um potencial mitigador desse estresse.